關于活性氧化鎂的形成基理!

　　關于活性氧化鎂的三個形成基理： 　　1.活性氧化鎂的形成 　　菱鎂礦石在窯爐的煅燒過程中，由于技術等原因造成礦石煅燒的溫度不同，當溫度達到400-600攝氏度時，其內(nèi)部結構疏松，晶體間孔隙最高，氧化鎂呈現(xiàn)最高的活性。 　　2.當煅燒溫度達到750-850攝氏度時，其晶體間孔隙率下降，達到鎂水泥反應的最佳范圍，活性適中。 　　當煅燒溫度大于900-1000攝氏度時，形成過 火氧化鎂，其活性很低甚至沒有活性。在一定活性范圍內(nèi) 　　，高活性者制品質(zhì)量好，低活性者制品質(zhì)量差，但欠火氧化鎂并非如此，它的活性越高，反應越激烈，放熱 越集中，制品質(zhì)量反而越差，容易開裂且強度不高。 　　3.活性氧化鎂也就是具有水化能力的氧化鎂。